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此外，日企产尖 （文章來源：財聯社） 日本公司DNP近日宣布，端光計劃為Rapidus研發並量產用於2nm製程芯片的掩模最尖端光掩模產品，預計2027年實現量產 。制程日本凸版（Toppan）公司也將開發最尖端的日企光掩模。